Para sorpresa de nadie, ASML admite que es incapaz de responder a la…

ASML enfrenta escasez de máquinas de litografía UVE ante la demanda de IA
La presión de los centros de datos para inteligencia artificial (IA) ha empujado a la industria de los semiconductores a buscar más líneas de producción. Si bien los fabricantes de circuitos integrados están en la mira, la verdadera crisis se ha materializado en el negocio de las empresas que fabrican equipos de fotolitografía y procesamiento de obleas. ASML, la única compañía que produce las máquinas de fotolitografía de ultravioleta extremo (UVE) necesarias para chips de vanguardia, se encuentra al borde del colapso de su capacidad.
Los principales clientes de ASML –TSMC, Intel, Samsung, Rapidus, SK hynix y Micron– están construyendo nuevas fábricas de gran capacidad que requieren entre 30 y 50 máquinas UVE cada una. El coste de una máquina convencional oscila entre 180 y 220 millones de euros, mientras que las de alta apertura (High‑NA) alcanzan los 300‑350 millones. Con esta demanda, ASML ha elevado su previsión de ingresos para 2026 y espera cerrar el último trimestre de este año con ventas netas de entre 14.200 y 15.200 millones de euros, cifras que superan ampliamente las estimaciones de los analistas.
La empresa ya ha vendido toda su capacidad de producción para 2027 y 2028.
A pesar de que Christophe Fouquet, director general, ha anunciado un plan de expansión que aumentará la capacidad de fabricación en un 30 % en 2027 y otro 30 % en 2028, la propia compañía reconoce que incluso con este incremento no podrá cubrir la demanda. “El esfuerzo que vamos a hacer no nos permitirá reaccionar a la presión que el mercado está ejerciendo sobre nosotros”, afirmó Fouquet.
ASML fabrica cuatro grandes categorías de equipos de litografía: máquinas de ultravioleta profundo (UVP) de inmersión, UVP en seco, UVE convencionales y UVE de alta apertura. Además, produce sistemas de metrología e inspección de obleas, aunque estos dispositivos no presentan la misma demanda que las UVE.
Los centros de datos para IA requieren chips de nodos por debajo de 7 nm, que sólo se fabrican con las máquinas UVE.
El monopolio efectivo de ASML en el mercado de equipos UVE le ha otorgado una posición cómoda, sin necesidad de competir con otras empresas. No obstante, la industria de los chips necesita más de lo que una sola compañía puede suministrar. Se anticipa que en 2027 los precios de las máquinas subirán, y a corto plazo no se espera que los fabricantes chinos de equipos de litografía desarrollen sus propias UVE. La única alternativa disponible son los dispositivos de nanoimpresión de Canon, cuya presencia en el mercado es limitada.
Algunas de las órdenes de ASML ya están programadas para 2029 o 2030, lo que evidencia la magnitud del apetito de la industria por la tecnología de litografía de última generación. Con la capacidad actual saturada y la expansión planificada insuficiente, la empresa se enfrenta a un cuello de botella que podría afectar la producción de chips de IA en los próximos años.

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